Raith EBL光刻机隔振方案
Raith EBL光刻机隔振方案
ARISMD主动隔振系统/主动式减震台/主动防震台，模块化主动隔振系统，可采用填充式安装方式，适用于大型光刻机、球差透射电子显微镜、EBL电子束曝光机.......
背景：微电子微纳米加工应用
使用单位：Infinroe
设备型号：Raith EBPG5200 Plus
隔振方案：ARISMD1000 Pro主动隔振系统/主动式减震台/主动防震台
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ARISMD Pro主动隔振系统/主动减震系统/主动防震系统
紧凑型模块化主动隔振系统，能够抵消影响超高精密设备或工具的振动，多个独立的隔振器可承受高达4000Kg的大型设备负载，安装简易灵活，无需抬高及重新校准。
主要优势：
1. 6自由度隔振
2. 0.5Hz开始隔振有效增益
3. 可变阻尼
4. 内置人工智能功能
5. 主动隔振频率范围可调整
6. 远程控制
7. 内置实时诊断工具（频谱分析仪、示波器）
8. 震动模式（可选）
应用领域：
1. 电子显微镜（SEM、TEM、FIB、EBL、DualBeam）
2. 半导体测试设备（光刻机、晶圆测试仪、电子束曝光机、CD_SEM）
3. 扫描隧道显微镜/STM、扫描探针显微镜SPM、大型原子力显微镜/AFM
4. X-Ray、CT、MPI
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规格参数：
| Model/型号 | ARISMD300 Pro | ARISMD500 Pro |
| Dimensions/规格（mm） | 230x230x75 230x270x75 | 230x230x75 230x270x75 |
| Load Capacity（Kg） | 100-300 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited | 200-500 per Isolator (Module) Number of Modules unlimited |
| Actuaotor Force/制动器力 | Vertical = 150N ; Horizontal = 75N | |
| Active Isolation Range/主动隔振频率 | 0.5-100Hz | |
| Architecture/结构 | MVIS - Multi-layer Vibration Isolation Structure/MVIS-多层隔振结构 | |
| Degrees of Freedom/自由度 | 6 degrees | |
| Vibration Isolation Performance/性能 | ~8db gain on 1Hz ~20db gain on 2Hz | |
| Setting Time/响应时间 | ≤0.1 sec | |
| Real-Time Diagnostic Tools 实时诊断工具 | Built-in Real-Time 2 channels Oscilloscope, Real Time 2 channel Spectrum Analyzer | |
| Real-Time performance adjustment 实时性能调整工具 | Adaptive Control in ALL 6 degrees of freedom in real-time. Remote Access | |
| Input Voltage/电压 | AC 80-260V/50-60Hz | |
